Căutare Avansată

An angle resolved XPS study on silicon native oxide grow on Si(100) substrate

• Vezi publicația: Revue Roumaine de Chimie
• Anul publicaţiei: 2002
• Referinţă bibliografică pentru nr. revistă: 47-6; anul 2002
• Paginaţia: 521-525
• Navigare în nr. revistă:  |<  <  3 / 12   >  >|

---

• Realizatori:  OSICEANU, Petre (autor)
• Descriptori:  chimie